Contrôle qualité des motifs géométriques 2D sur les masques de photolithographie optique - LAAS - Laboratoire d'Analyse et d'Architecture des Systèmes
Rapport Technique Année : 2021

Contrôle qualité des motifs géométriques 2D sur les masques de photolithographie optique

Résumé

Les moyens de la plateforme RENATECH du LAAS permettent la fabrication de différents formats (carrés de 2,5 / 4 / 5 / 6 / 7 pouces de côté) de masque verre / chrome et réticule quartz / chrome pour la photolithographie optique. Ce document présente une étude des paramètres ayant une influence prépondérante sur le procédé de fabrication des masques et réticules.
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Contrôle qualité des motifs géométriques 2D sur les masques de photolithographie optique.pdf (2.94 Mo) Télécharger le fichier
Origine Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Dates et versions

hal-03164214 , version 1 (09-03-2021)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03164214 , version 1

Citer

David Colin, Pierre-François Calmon. Contrôle qualité des motifs géométriques 2D sur les masques de photolithographie optique. Rapport LAAS n° 21047. 2021. ⟨hal-03164214⟩
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