Influence of nanofabrication errors on optical metasurfaces performances: study and minimization strategies
Adelin Patoux
(1, 2)
,
Gonzague Agez
(2, 3, 4)
,
Christian Girard
(2, 4)
,
Vincent Paillard
(2, 4)
,
Peter Wiecha
(1)
,
Aurélie Lecestre
(5)
,
Franck Carcenac
(5)
,
Guilhem Larrieu
(1)
,
Arnaud Arbouet
(2, 4)
1
LAAS-MPN -
Équipe Matériaux et Procédés pour la Nanoélectronique
2 CEMES - Centre d'élaboration de matériaux et d'études structurales
3 IUT Toulouse Auch Castres - Institut Universitaire de Technologie - Paul Sabatier
4 CEMES-NeO - Nano-Optique et Nanomatériaux pour l'optique
5 LAAS-TEAM - Service Techniques et Équipements Appliqués à la Microélectronique
2 CEMES - Centre d'élaboration de matériaux et d'études structurales
3 IUT Toulouse Auch Castres - Institut Universitaire de Technologie - Paul Sabatier
4 CEMES-NeO - Nano-Optique et Nanomatériaux pour l'optique
5 LAAS-TEAM - Service Techniques et Équipements Appliqués à la Microélectronique
Gonzague Agez
- Fonction : Auteur
- PersonId : 18239
- IdHAL : gonzague-agez
- ORCID : 0000-0002-2164-1283
- IdRef : 091447402
Christian Girard
- Fonction : Auteur
- PersonId : 18241
- IdHAL : christian-girard
- IdRef : 069226091
Vincent Paillard
- Fonction : Auteur
- PersonId : 18236
- IdHAL : vincentpaillard
- ORCID : 0000-0002-9085-0396
- IdRef : 160845742
Peter Wiecha
- Fonction : Auteur
- PersonId : 20601
- IdHAL : peter-wiecha
- ORCID : 0000-0002-4571-0116
- IdRef : 203873327
Aurélie Lecestre
- Fonction : Auteur
- PersonId : 753470
- IdHAL : aurelie-lecestre
- ORCID : 0000-0003-2251-1226
Franck Carcenac
- Fonction : Auteur
- PersonId : 14023
- IdHAL : franck-carcenac
- ORCID : 0000-0002-9660-9931
Guilhem Larrieu
- Fonction : Auteur
- PersonId : 14226
- IdHAL : glarrieu
- ORCID : 0000-0001-5157-2277
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Arnaud Arbouet
- Fonction : Auteur
- PersonId : 18238
- IdHAL : arnaud-arbouet
- ORCID : 0000-0002-6825-7668
- IdRef : 082966583
Résumé
Through simulation design, fabrication and characterization of optical sili- con metasurfaces, we discuss the influence of different nanofabrication errors and propose strategies to optimize the robustness of the fabrication of complex metasurfaces.