Contrôle qualité des motifs géométriques 2D sur les masques de photolithographie optique
Résumé
Les moyens de la plateforme RENATECH du LAAS permettent la fabrication de différents formats (carrés de 2,5 / 4 / 5 / 6 / 7 pouces de côté) de masque verre / chrome et réticule quartz / chrome pour la photolithographie optique.
Ce document présente une étude des paramètres ayant une influence prépondérante sur le procédé de fabrication des masques et réticules.
Domaines
Sciences de l'ingénieur [physics]
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