Advances in top-down fabrication and processing of vertical SiGe nanowire arrays for future nanoelectronics applications
Origine | Fichiers produits par l'(les) auteur(s) |
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https://laas.hal.science/hal-03771519
Soumis le : vendredi 21 octobre 2022-15:49:37
Dernière modification le : mercredi 15 mai 2024-13:42:16