Communication Dans Un Congrès Année : 2022

Advances in top-down fabrication and processing of vertical SiGe nanowire arrays for future nanoelectronics applications

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hal-03771519 , version 1 (21-10-2022)

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  • HAL Id : hal-03771519 , version 1

Citer

Jonas Müller, Aurélie Lecestre, Rémi Demoulin, Fuccio Cristiano, J. M. Hartmann, et al.. Advances in top-down fabrication and processing of vertical SiGe nanowire arrays for future nanoelectronics applications. J2N 2022 - Journées Nationales Nanofils semiconducteurs, Sep 2022, Nice, France. ⟨hal-03771519⟩
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